unity光照烘培_unity烘焙
以下是关于Unity光照烘焙（Light Baking）的详细解析，涵盖核心概念、操作流程、优化技巧及常见问题解决方案：
一、光照烘焙基础概念
1. 定义
- 光照烘焙是将场景中的光照信息（如颜色、强度、阴影）预先计算并存储为纹理（光照贴图）的过程。
- 作用：减少运行时计算量，提升性能，同时实现高质量静态光照效果。
2. 核心术语
- 光照贴图（Lightmap）：存储烘焙后光照信息的2D纹理。
- 实时光照（Realtime Lighting）：运行时动态计算的光照（如移动光源）。
- 混合光照（Mixed Lighting）：结合实时与烘焙光照的模式。
二、光照烘焙模式选择
表格
模式 适用场景 特点
Progressive（默认） 复杂场景 分阶段烘焙，支持实时预览
Legacy 简单场景/旧项目 传统烘焙方式，速度较快
GPU Lightmapper 高分辨率/复杂光照 利用GPU加速烘焙
三、光照烘焙操作流程
1. 准备场景
- 标记静态物体：勾选 Lightmap Static （需烘焙的物体）和 Occludee Static （影响遮挡的物体）。
- 设置光源：将光源模式设为 Baked （完全烘焙）或 Mixed （部分实时）。
2. 配置光照设置
打开 Window → Rendering → Lighting → Settings ：
- Lightmap Parameters：
- Resolution：光照贴图分辨率（推荐：5-20 texels/unit）。
- Compression：选择压缩格式（如ASTC，减少内存占用）。
- Lightmap Padding：避免UV接缝处颜色溢出。
- Environment Lighting：设置天空盒、环境光颜色和反射探针。
3. 执行烘焙
- 开始烘焙：点击 Bake 按钮（Progressive模式支持中途停止）。
- 优化建议：
- 关闭不必要的光源（如烘焙后禁用 Realtime 光源）。
- 使用 Lightmap Resolution 工具调整局部分辨率。
4. 结果验证
- 检查光照贴图：在 Lightmap 面板查看生成的纹理。
- 修复问题：
- 黑斑/接缝：调整UV展开或增加 Lightmap Padding 。
- 过曝/过暗：修改光源强度或环境光设置。
四、混合光照与动态物体
1. 混合光照模式
- Shadowmask：烘焙静态物体阴影，动态物体接收实时阴影。
- Distance Shadowmask：根据距离切换阴影模式（优化性能）。
- Subtractive：部分光源实时，其他烘焙（适用于局部动态光照）。
2. 动态物体处理
- 反射探针（Reflection Probe）：捕获静态环境反射，动态物体使用烘焙反射。
- Realtime GI：启用实时全局光照（需高端硬件支持）。
五、性能优化技巧
1. 降低内存占用：
- 使用压缩格式（ASTC），避免高分辨率光照贴图。
- 合并相似物体的光照贴图（通过 Lightmap Parameters 的 Packed Lightmaps ）。
2. 减少烘焙时间：
- 简化场景复杂度（移除不可见物体）。
- 使用 Lightmap Resolution 工具局部调整分辨率。
3. 移动端优化：
- 关闭 Directional Light 的 Bake Shadows 。
- 优先使用 Shadowmask 模式而非 Realtime GI 。
- 插件推荐：
- Lightmap Resolution Tool （自动优化局部光照贴图分辨率）
- ProBuilder （快速创建光照友好的几何体）
通过合理使用光照烘焙，可在保证视觉效果的同时大幅提升游戏性能。建议在项目初期规划光照策略，优先处理静态场景，并结合混合光照模式平衡动态元素。
